此前3月，上海新阳发布公告称，由芯刻微公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。
据上海新阳介绍，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功，为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。
光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多，以及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长。
此次上海新阳光刻胶产品取得首笔订单订单可谓是意义重大。上海新阳表示，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功，为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。上海新阳光刻胶产品的订单取得意义重大，将对公司该类产品的认证及销售产生积极的作用，有利于上海新阳业务的长期发展。
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来源：gh_8d3fca5f0612 半导体智库
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