【光刻系列讲座】 深度学习快速计算光刻技术

光刻系列讲座

深度学习快速计算光刻技术

马 旭

讲座信息

主讲人：马   旭

主持人：李   璟

报告题目：深度学习快速计算光刻技术

报告时间：6月30日  16:00-18:00

报告地点：腾讯会议

会议 I D：815 665 139

光刻系列讲座

讲座内容

计算光刻是支撑光刻工艺节点不断推进的关键EDA仿真技术。随着半导体器件集成度的不断攀升，计算光刻算法的数据处理量和计算复杂度日益增加，对计算光刻的实施效率提出了巨大挑战。本报告首先介绍了机器学习和深度学习技术的特点及其在计算光刻领域的应用。针对传统深度学习模型解释难、预测难、设计难的问题，提出了基于模型驱动深度学习的快速计算光刻技术，以及高效率、低成本的非监督网络训练方法。研究表明，新型的深度学习计算光刻技术能够在大幅提升计算效率的同时，进一步提升光刻系统的成像质量。

主讲人简介

马  旭

马旭，男，北京理工大学教授（博导），光电学院光电成像与信息工程研究所所长，光电成像技术与系统教育部重点实验室副主任。主要从事计算光刻与光电图像处理研究，出版“计算光刻”英文专著1部（Wiley & Sons 2010），发表学术论文近90篇，授权发明专利30余项。主持/参与国家自然基金、北京市自然基金等项目20余项。中国光学学会光电技术专委会委员、中国微米纳米技术学会分会理事、中国仪器仪表学会分会理事，IEEE、OSA和SPIE高级会员。

主持人

李  璟

李璟，中科院微电子所研究员，光刻技术总体部主任, 博士生导师，入选国家级高层次人才计划， 具备十多年该领域和行业的技术研发和产品升级经验，主要从事光刻技术、超精密测量控制技术、大系统集成及复杂控制工程等方面的研究。申请国内外发明专利40余项。

主办方介绍

中国光学学会光刻技术专业委员会（以下简称光刻专委会）是中国光学学会的二级专业委员会，是由光刻技术领域的科技工作者和有关企事业单位组成，专业领域包括光刻相关的设备、材料、工艺、掩模、EDA软件和检测等，自愿结成并共建发展光刻技术事业。

欢迎大家加入光刻技术专业委员会

详情请来电或邮件咨询

电话：01082995816（何老师）

邮箱：Litho_committee@ime.ac.cn

系列讲座介绍

为了促进光刻技术的繁荣和发展，促进光光刻技术的普及和推广，促进光刻技术人才的成长和提高，提高全民科学素质服务，现中国光学学会光刻技术专业委员会将开展系列主题科普报告活动，由于疫情等原因，活动形式暂时为线上视频讲座。