六方氮化硼 (h-BN)是一种二维层状宽带隙绝缘材料，具有良好的耐热性、化学稳定性和介电特性，被广泛用作电子器件中。来自美国莱斯大学娄俊教授和新加坡南洋理工大学高华健院士（美国科学院院士、美国工程院院士、美国艺术与科学院院士、德国科学院院士、中国科学院外籍院士、欧洲科学院院士）的联合团队发文称，他们发现：常识中认为脆性的h-BN居然表现出超强的抗裂性（即韧性），是石墨烯的10倍！这个发现与格里菲斯的断裂理论背道而驰，而且此前从未在二维材料中观察到这种异常现象。
文献链接：
Intrinsic toughening and stable crack propagation in hexagonal boron nitride，Nature，2021
原文链接：
https://www.toutiao.com/i6969397694616109582/
来源：gh_d06fa4463e84 今日新材料
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