什么是光刻技术？

来源：芯片逆向

光刻是集成电路最重要的加工工艺。光刻技术跟照相技术差不多，照相是将镜头里的图画“印”到底片上，而光刻是将电路图和电子元件“刻”到“底片”上。在光刻工艺中，通常以涂满光敏胶的硅片作为“底片”，电路图案经光刻机，缩微投射到“底片”上。制造芯片，要重复几十遍这个过程。

光刻技术的主要作用，就是把芯片上的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光，通过带有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片进行曝光，光刻胶见光后会发生化学反应，从而使光罩上的图形印到薄片上，线路和功能区随之显现。

在芯片加工过程中，光刻是其中一个重要的步骤，甚至被认为是集成电路制造中最为关键的步骤，决定着制造工艺的先进程度。

光刻技术的精细度，直接决定了元器件、电路等在芯片上所占的体积。因而，光刻是决定芯片能否按照摩尔定律继续发展的一项重要技术，如果没有光刻技术的进步，芯片制造工艺就不可能从微米进入深亚微米再进入纳米时代。

光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光刻技术。为满足摩尔定律的要求，技术人员一直在研究、开发新的芯片制造技术，来缩小线宽并增大芯片的容量。芯片解密小编和大家一起拭目以待吧！