河北省农科院：日光温室黄瓜高效管理技术

来源：河北科技报

日光温室黄瓜的高效管理主要包括温光气热环境管理、水肥管理和病虫害管理三个方面，现将重点技术介绍如下。

一、温光气热环境管理

1.延迟地膜覆盖，促进根系下扎技术。越冬黄瓜40%～50%的根系浮在地膜下0～10厘米表土层，15%～20%的根系在10～15厘米的浅土层，只有不足20%的根系进入30厘米以下的耕层。当温室内气温低于13℃～14℃时，0～10厘米的地温变化幅度较大，随室内的气温下降会明显降低。当地温低于10℃时，根系的活动能力明显减弱，吸水吸肥能力下降。对于这个问题，可以通过延迟地膜覆盖来缓解。基本控制在定植后25～30天后再覆盖地膜，在此期间进行浅中耕，促进根系下扎，可以明显的提高植株抗低温和早衰的能力，产量比传统方法增加10%左右。

2.沟滴灌交替使用技术。日光温室长季节黄瓜生育期在8个月以上。

11月至翌年2月份气温过低，此时采用滴灌，就会降低棚室内的空气湿度，减少气传病害的发生和加剧。3月份以后随着外界气温升高，棚室内的气温和地温也在升高，地面的腾发量在明显上升，在该时段采用沟灌，能够解决地温过高和植株需水量过大的情况，避免黄瓜出现生理性干旱。

3.PO膜的使用。目前应用效果较好的PO膜逐步替代使用多年的PE膜，减少棚膜结露，提高透光率，改善室内环境。试验表明：PO膜覆盖的温室透光率较PE膜高4.5%～4.7%，使温室气温和地温分别升高0.2℃～2℃和0.3℃～1.5℃，显著增加了黄瓜瓜长，黄瓜商品瓜率提高10%，使每亩黄瓜前期、中期、后期产量和总产量均明显增加，分别比对照提高52%、27.2%、58.6%和43.4%。

4.冬季温湿度管理技术。黄瓜植株生育温度范围是10℃～35℃，最适温度范围18℃～32℃，以昼温25℃～32℃、夜温12℃～15℃最佳。

采用四段式温度管理：上午光合作用最强阶段控制温度在26℃～32℃，下午20℃～24℃，前半夜养分运输阶段控制温度在15℃～17℃，后半夜养分消耗阶段调低温度至8℃～12℃。

二、水肥管理

温室黄瓜可采取水肥一体化精准施肥装置——手提泵进行浇水施肥。具体操作要点为：田间首端枢纽由管灌系统和滴灌系统2部分组成，在2个系统的前端增设1个变径增接口和速接头，手提泵与速接头可快速连接。当滴灌运行时，可利用手提泵冲入肥料，通过滴灌系统将肥料准确地滴入作物根区，实现了精准施肥。

当进行喷药作业时，药箱放置在田间首端，手提泵与输药管和药箱可进行快速连接，作业人员只需手持喷杆进行喷雾，利用手中的遥控器远程调控。

三、病虫害管理

1.预防土传病害栽培技术。

 (1)高温闷棚。在5月底6月初黄瓜拉秧后，清除黄瓜蔓。密闭棚室，高温闷棚15天，温度控制在60℃～65℃。

(2)玉米填闲。6月中旬播种玉米，选择生育期短的玉米品种(100天左右)。效果：吸收土壤中氮的量为10.2公斤/亩，可有效降低土壤盐渍化程度。

(3)秸秆还田。9月中旬粉碎玉米秸秆还田，每亩地增施尿素15公斤调节碳氮比、生物菌肥5公斤改善土壤中微生物环境、有机肥4立方米，然后深翻土壤25～35厘米。再施入缓释肥魔瑞生2号30公斤/亩，然后定植，缓苗水一定要浇透。

2.温室黄瓜常见病虫害的防治药剂（见下表）。

    （河北省农林科学院经济作物研究所供稿）

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